DUV是深紫外线（Deep Ultraviolet Lithography），EUV是极深紫外线（Extreme Ultraviolet Lithography）从制程范围来看，DUV基本上只能做到25nm，Intel凭借双工作台的模式做到了10nm，但是却无法达到10nm以下只有EUV能满足10nm以下的晶圆制造，并且还可以向5nm、3nm继续延伸
copros
发泡设备|塑料模|模具设备|PP|LDPE|注塑加工
DUV是深紫外线（Deep Ultraviolet Lithography），EUV是极深紫外线（Extreme Ultraviolet Lithography）从制程范围来看，DUV基本上只能做到25nm，Intel凭借双工作台的模式做到了10nm，但是却无法达到10nm以下只有EUV能满足10nm以下的晶圆制造，并且还可以向5nm、3nm继续延伸
